镀膜框以及遮蔽型镀膜治具
授权
摘要
本实用新型涉及一种镀膜框以及遮蔽型镀膜治具。该镀膜框包括底座、侧板以及卡紧件。侧板围绕底座的边缘设置，侧板的内侧形成遮蔽腔室，侧板上设有穿设通道，穿设通道用于供待镀膜工件伸入遮蔽腔室。卡紧件设于遮蔽腔室内，卡紧件用于卡紧待镀膜工件且能够抵接于侧板的内壁以避免待镀膜工件自穿设通道脱落。采用该镀膜框对工件进行镀膜时，将待镀膜工件从穿设通道插入，使需要镀膜的部分位于遮蔽腔室外。然后通过卡紧件卡紧待镀膜工件，同时卡紧件与侧板的内壁抵接，此时待镀膜工件不会从穿设通道脱落，能够方便快捷地将待镀膜工件安装到镀膜框中，操作过程简单便利，有效提高生产效率。
基本信息
专利标题 ：
镀膜框以及遮蔽型镀膜治具
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122160371.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-09-07
授权号 ：
CN216514110U
授权日 ：
2022-05-13
发明人 ：
王强熊汤华王金平何好珍
申请人 ：
维达力实业（深圳）有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市龙岗区平湖街道禾花社区富康路6号深业物流平湖中心厂房B（宝能智创谷B栋）301-303，305-313，315-322
代理机构 ：
华进联合专利商标代理有限公司
代理人 ：
郑彤
优先权 ：
CN202122160371.4
主分类号 ：
C23C14/56
IPC分类号 ：
C23C14/56 C23C14/04 C23C14/50 C23C16/54 C23C16/04 C23C16/458
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/56
连续镀覆的专用设备；维持真空的装置，例如真空锁定器
法律状态
2022-05-13 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
