一种真空炉用无落差暗流浇铸的设备
授权
摘要

本实用新型公开了一种真空炉用无落差暗流浇铸的设备,属于高纯铝真空冶炼技术领域。该设备包括真空中频熔炼炉、石墨坩埚、出铝溜槽、旋转溜槽和固定溜槽;所述真空中频熔炼炉的筒状炉体内放置石墨坩埚,石墨坩埚的上端设有坩埚上沿,坩埚上沿上开设竖直方向贯通的缺口形成流液通道,流液通道依次连接出铝溜槽、真空挡板阀、旋转溜槽和固定溜槽;铝熔体浇注时,真空中频熔炼炉炉体倾转,石墨坩埚中的铝熔体经流液通道流出,再经浇注组件直至结晶器完成无落差落铸。本实用新型通过真空炉配套无落差出铝溜槽的结构设计能够控制熔炼及浇铸过程熔体的稳定状态,避免熔体落差及扰动等造成气渣卷入,最终实现低气低渣的高品质高纯铝产品制备。

基本信息
专利标题 :
一种真空炉用无落差暗流浇铸的设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202122229713.3
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-09-15
授权号 :
CN216159617U
授权日 :
2022-04-01
发明人 :
热合木吐拉·乌甫尔马小红刘江滨徐亚军白毅沈英华李永奇杨冰冰努力古·依明
申请人 :
新疆众和股份有限公司
申请人地址 :
新疆维吾尔自治区乌鲁木齐市高新区喀什东路18号
代理机构 :
沈阳科苑专利商标代理有限公司
代理人 :
于晓波
优先权 :
CN202122229713.3
主分类号 :
F27B14/04
IPC分类号 :
F27B14/04  F27B14/06  F27B14/08  F27B14/10  F27B14/14  F27B14/20  B22D35/04  C22C1/02  C22C1/03  C22C1/06  C22C21/00  
IPC结构图谱
F
F部——机械工程;照明;加热;武器;爆破
F27
炉;窑;烘烤炉;蒸馏炉
F27B
一般馏炉、窑、烘烤炉或蒸馏炉;开式烧结设备或类似设备
F27B
一般馏炉、窑、烘烤炉或蒸馏炉;开式烧结设备或类似设备
F27B14/00
坩埚炉或罐式炉;浴炉
F27B14/04
适宜用于在真空中或特殊气氛中处理炉料的
法律状态
2022-04-01 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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