一种密封结构和磁流变抛光液的回收装置
授权
摘要
为解决现有技术中存在的由于采用弱磁密封导致抛光轮磨损甚至磁流变抛光液回收失效的技术问题，本实用新型实施例提供一种密封结构和磁流变抛光液的回收装置，包括：内磁体，用于设于抛光轮内侧；以及外磁体，用于与内磁体相对且同轴设于抛光轮外侧的导流块；内磁体、外磁体和内磁体与外磁体之间的磁流变抛光液形成磁密封结构。本实用新型实施例通过密封结构的内磁体和外磁体使磁流变抛光液中的抛光粉颗粒远离抛光轮，从而，抑制了抛光粉与抛光轮的接触，从而解决抛光过程中抛光轮容易磨损的问题，从而，避免了抛光轮容易磨损导致磁流变抛光液回收失效的问题。
基本信息
专利标题 ：
一种密封结构和磁流变抛光液的回收装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122279331.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-09-18
授权号 ：
CN216151878U
授权日 ：
2022-04-01
发明人 ：
王道文
申请人 ：
华圭精密科技（东莞）有限公司
申请人地址 ：
广东省东莞市高埗镇祁屋洲二路2号2号楼102室
代理机构 ：
成都行之智信知识产权代理有限公司
代理人 ：
王伟
优先权 ：
CN202122279331.1
主分类号 ：
B24B1/00
IPC分类号 ：
B24B1/00 B24B31/112 B24B57/02 B24B57/00
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B24
磨削；抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给
B24B1/00
磨削或抛光的工艺；与此工艺有关的所用辅助设备
法律状态
2022-04-01 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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