一种含纳米二硅化钼离合器面片
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摘要

本实用新型涉及离合器面片技术领域,且公开了一种含纳米二硅化钼离合器面片,包括底板,所述底板水平设置,所述底板为环形板设置,所述底板顶面竖直向下开设有安装槽,所述安装槽围成一圈均匀开设在底板顶面,所述底板顶面水平设置有垫板。该一种含纳米二硅化钼离合器面片,通过设置摩擦块、垫板与底板分离的结构,达到可以针对不同损伤程度的摩擦片进行更换,利用在垫板和底板之间设置有碳纤维材料制成的吸音板一和吸音板二,使该离合器面片具有很好的吸音减震效果,在吸音板一和吸音板二之间设置有铝合金制成的传热板,并在传热板上开设有吸音通槽,在方便将吸热环板上的热量传输至散热环板上时,同过吸音通槽提高吸音效果。

基本信息
专利标题 :
一种含纳米二硅化钼离合器面片
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202122312180.5
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-09-24
授权号 :
CN216199974U
授权日 :
2022-04-05
发明人 :
王力
申请人 :
山东力通离合器制造有限公司
申请人地址 :
山东省聊城市阳谷县寿张镇丁集村
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN202122312180.5
主分类号 :
F16D13/72
IPC分类号 :
F16D13/72  F16D13/58  F16D13/68  F16D69/02  
IPC结构图谱
F
F部——机械工程;照明;加热;武器;爆破
F16
工程元件或部件;为产生和保持机器或设备的有效运行的一般措施;一般绝热
F16D
传送旋转运动的联轴器
F16D
传送旋转运动的联轴器
F16D13/00
摩擦离合器
F16D13/58
零件
F16D13/72
关于冷却的器件
法律状态
2022-04-05 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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