一种真空中电荷选择捕获释放的装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种真空中电荷选择捕获释放的装置。光阱和微粒位于真空室内，微粒稳定捕获于光阱中，微粒捕获经栅网电极系统输送的等离子体系统产生的电荷；第一栅网电极、第二栅网电极和第三栅网电极布置于真空室内，光阱位于第二栅网电极和第三栅网电极之间；等离子体靶材和光路系统位于真空室内，等离子体靶材位于第一栅网电极和第二栅网电极之间，光路系统位于第三栅网电极远离第二栅网电极的一侧，诱导等离子体光源位于真空室外靠近光路系统的一侧；本实用新型装置采用激光诱导产生等离子体，避免产生高压电场；同时，通过对栅网电极电势的合理分配，很好的控制在静电场中运动的电荷的性质，从而控制微粒所捕获电荷的性质。
基本信息
专利标题 ：
一种真空中电荷选择捕获释放的装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122459071.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-10-12
授权号 ：
CN216697832U
授权日 ：
2022-06-07
发明人 ：
刘承
申请人 ：
浙江大学
申请人地址 ：
浙江省杭州市西湖区余杭塘路866号
代理机构 ：
杭州求是专利事务所有限公司
代理人 ：
林超
优先权 ：
CN202122459071.6
主分类号 ：
G21K1/00
IPC分类号 ：
G21K1/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G21
核物理；核工程
G21K
未列入其他类目的粒子或电离辐射的处理技术；照射装置；γ射线或X射线显微镜
G21K1/00
粒子或电离辐射的处理装置，如聚焦或慢化
法律状态
2022-06-07 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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