一种用于真空镀膜机电子枪的电磁铁偏转结构
授权
摘要

本实用新型公开了一种用于真空镀膜机电子枪的电磁铁偏转结构,属于真空镀膜机设备技术领域,目的在于解决现有设备难以精确调节电子束位置及位置漂移的问题。其包括电子枪主体和电子枪枪头组件,电子枪主体包括电子枪底座,电子枪底座上设有主极靴,电子枪底座上设有电磁铁组件,电磁铁组件包括铁芯,铁芯上绕设有通电线圈,铁芯上设有过线槽孔,通电线圈的引出线过线穿过过线槽孔,铁芯两端开设有固定螺孔,还设有固定螺钉,固定螺钉穿过主极靴与固定螺孔螺纹连接,引出线依次穿过主极靴孔和引出线锁紧螺母并通过柔性波纹管和电气接插件引出到真空室外与精密恒流源电连接,主极靴上安装有电磁铁防护罩。本实用新型适用于真空镀膜机电子枪。

基本信息
专利标题 :
一种用于真空镀膜机电子枪的电磁铁偏转结构
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202122607772.X
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-10-28
授权号 :
CN216445452U
授权日 :
2022-05-06
发明人 :
薛照明薛海杨毅
申请人 :
成都天一国泰真空设备有限公司
申请人地址 :
四川省成都市龙泉驿区经济技术开发区(龙泉驿区)大连路38号2栋1-2层1号附1号
代理机构 :
成都聚蓉众享知识产权代理有限公司
代理人 :
刘艳均
优先权 :
CN202122607772.X
主分类号 :
C23C14/30
IPC分类号 :
C23C14/30  C23C14/56  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/28
波能法或粒子辐射法
C23C14/30
电子轰击法
法律状态
2022-05-06 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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