一种减少光罩的AMOLED背板结构
授权
摘要
本实用新型公开一种减少光罩的AMOLED背板结构，同时形成源漏极和栅极，能够达到减少光罩次数，提高生产效率和降低生产成本的目的；电容间绝缘层由第二绝缘层即Cox的间距D=d1通过调节距离增大储存电容；本实用新型通过一次成膜金属膜层形成GE/SD,减少光罩，节约成本，调节间距增大电容。本实用新型在维持现有OLED TFT器件制作工艺流程的前提下，通过设置氧化物半导体刻蚀阻挡层，降低电容绝缘厚度，达到提升补偿电路电容量or缩小电容设计需求尺寸大小。
基本信息
专利标题 ：
一种减少光罩的AMOLED背板结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122720711.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-11-08
授权号 ：
CN216288466U
授权日 ：
2022-04-12
发明人 ：
潜垚朱书纬
申请人 ：
福建华佳彩有限公司
申请人地址 ：
福建省莆田市涵江区涵中西路1号
代理机构 ：
福州君诚知识产权代理有限公司
代理人 ：
戴雨君
优先权 ：
CN202122720711.4
主分类号 ：
H01L27/32
IPC分类号 ：
H01L27/32
法律状态
2022-04-12 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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