减少光罩沉淀缺陷的方法
发明专利申请公布后的驳回
摘要

本发明是有关于一种减少光罩沉淀缺陷的方法,在一半导体生产制程中,有一运送光罩的容器,而光罩包括一由绝缘材料制成的基底,且此基底表面沉积了一金属层。本发明揭露一种隔离和移除环境污染物的方法,此方法包括以惰性气体充填此容器,借以清除其中的环境污染物,例如以容器的入口供净化用的惰性气体通入,而容器的出口供容器内的不纯物排出,本发明提高了产品良率、光罩产能以及光罩使用寿命,减少了光罩经过清洁后的关键尺寸损失,以及减少了光罩重工率的不良影响。

基本信息
专利标题 :
减少光罩沉淀缺陷的方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1983035A
申请号 :
CN200610064834.4
公开(公告)日 :
2007-06-20
申请日 :
2006-03-14
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
戴逸明
申请人 :
台湾积体电路制造股份有限公司
申请人地址 :
台湾省新竹科学工业园区新竹市力行六路8号
代理机构 :
北京中原华和知识产权代理有限责任公司
代理人 :
寿宁
优先权 :
CN200610064834.4
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  H01L21/673  B65D85/00  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2011-10-19 :
发明专利申请公布后的驳回
号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101198746742
IPC(主分类) : G03F 7/20
专利申请号 : 2006100648344
公开日 : 20070620
2007-08-15 :
实质审查的生效
2007-06-20 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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