一种PECVD镀膜变节距中转机构
授权
摘要

本实用新型公开了一种PECVD镀膜变节距中转机构,包括安装架和夹持机构,夹持机构设置于安装架的一侧,夹持机构包括两个夹持臂和固定机构,固定机构设置于夹持臂上,固定机构包括多个夹块,多个夹块等距固定安装在夹持臂上,相邻两个夹块之间设置卡槽,夹块的一侧固定连接有传感器,安装架的一侧固定连接有双向气缸。本实用新型通过将硅片移动到夹持臂的下方位置,使得相邻两个夹块之间的卡槽与单独硅片的位置相对应,利用双向气缸的运行,带动两个夹持臂沿着导轨一相向移动,对硅片的两面夹紧固定,使得多个硅片等距排列设置,通过夹持臂进行转动,避免出现皮带纹,减少工人的劳动量,提供生产效率。

基本信息
专利标题 :
一种PECVD镀膜变节距中转机构
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202122728092.3
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-11-09
授权号 :
CN216514119U
授权日 :
2022-05-13
发明人 :
徐雷达
申请人 :
江苏创生源智能装备股份有限公司
申请人地址 :
江苏省宿迁市泗洪县经济开发区双洋西路12号
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN202122728092.3
主分类号 :
C23C16/458
IPC分类号 :
C23C16/458  C23C16/50  C23C16/54  H01L21/677  H01L31/18  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/458
在反应室中支承基体的方法
法律状态
2022-05-13 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
  • 联系电话
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 联系 Q Q
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 关注微信
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 收藏
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332