一种消反结构
授权
摘要
本实用新型揭示一种消反结构，包括阵列设置的亚波长的纳米结构和形成在所述纳米结构上且呈透明的多个微米结构，其中多个微米结构的密度小于阵列设置的纳米结构的密度；所述微米结构的高度高于所述纳米结构的高度。实用新型通过在纳米蛾眼结构的基础上，加入微米结构，微米结构可以选择硬度相对较大的材料，可以有效的实现既有消反光的效果，又有耐刮擦的效果的结构。
基本信息
专利标题 ：
一种消反结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122741974.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-11-10
授权号 ：
CN216622745U
授权日 ：
2022-05-27
发明人 ：
娄飞史瑞孙佳怡
申请人 ：
深圳市雕拓科技有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市龙华区大浪街道新石社区嘉义源数码科技园7号1层
代理机构 ：
深圳市惠邦知识产权代理事务所
代理人 ：
满群
优先权 ：
CN202122741974.3
主分类号 ：
G02B1/118
IPC分类号 ：
G02B1/118
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B1/00
按制造材料区分的光学元件；用于光学元件的光学涂层
G02B1/10
对光学元件表面涂覆或对它进行表面处理后所产生的光学涂层
G02B1/11
抗反射涂层
G02B1/118
具有一种设计成分段视觉波长的表面结构以提供增强的透射率，例如，蛾眼结构
法律状态
2022-05-27 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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