一种电解抛光阳极辅助装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种电解抛光阳极辅助装置，用以对活动义齿支架进行电解抛光，其包括：用以连接活动义齿支架卡环的导体，导体设为多面体；导体设有用以在电解抛光过程中调节活动义齿支架不同位置上电流密度的多个孔结构或槽结构。实施本实用新型电解抛光阳极辅助装置，能够调节活动义齿支架在不同位置上的电流密度，提升局部的抛光亮度，同时避免出现局部损耗严重的问题。
基本信息
专利标题 ：
一种电解抛光阳极辅助装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122782227.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-11-12
授权号 ：
CN216639700U
授权日 ：
2022-05-31
发明人 ：
蔡汉伟
申请人 ：
深圳市汉伟港泰首饰机械设备有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市龙岗区南湾街道布澜路李朗国际珠宝产业园B2栋1楼
代理机构 ：
深圳汇智容达专利商标事务所(普通合伙)
代理人 ：
潘中毅
优先权 ：
CN202122782227.4
主分类号 ：
C25F3/16
IPC分类号 ：
C25F3/16 A61C13/12
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C25
电解或电泳工艺；其所用设备
C25F
电解法除去物体上材料的方法；其所用的设备
C25F3/00
电解浸蚀或抛光
C25F3/16
抛光
法律状态
2022-05-31 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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