一种同轴光源
授权
摘要
本实用新型公开了一种同轴光源，包括分光膜，所述分光膜的两侧分别设有灯源和用于消光的反射壁；所述反射壁包括基底，在所述基底上设有多个锥形凹槽和/或多个锥形凸起；其中，所述锥形凹槽的底面朝向所述灯源，所述锥形凸起的底面背向所述灯源。所述锥形凹槽和所述锥形凸起的表面均经过发黑处理。本实用新型提供的一种同轴光源，入射的杂散光可以在锥形凹槽或者锥形凸起的表面反射，由于反射面为锥面，因此可以通过两次以上的反射进行消光，以解决现有技术中存在的反射光较强的问题。
基本信息
专利标题 ：
一种同轴光源
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122790677.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-11-15
授权号 ：
CN216351696U
授权日 ：
2022-04-19
发明人 ：
陈建伟曾振煌
申请人 ：
广东奥普特科技股份有限公司
申请人地址 ：
广东省东莞市长安镇锦厦社区河南工业区锦升路8号
代理机构 ：
北京集佳知识产权代理有限公司
代理人 ：
韩丽波
优先权 ：
CN202122790677.8
主分类号 ：
G03B15/03
IPC分类号 ：
G03B15/03
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03B
摄影、放映或观看用的装置或设备；利用了光波以外其他波的类似技术的装置或设备；以及有关的附件
G03B15/00
摄影的特殊操作；所用的设备
G03B15/02
场面照明
G03B15/03
相机和灯光设备的联合；闪光单元
法律状态
2022-04-19 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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