一种双光路缺陷检测装置
授权
摘要

本实用新型公开了一种双光路缺陷检测装置,包括用于发出检测光线的灯板,以及设于检测光线的光路上的第一分光器件、第二分光器件和第一反射器件。检测光线中的第一部分光线经第一分光器件引射至第一被测工件,形成第一反射光线;检测光线中的第二部分光线经第一反射器件引射至第二被测工件,形成第二反射光线;还包括第二分光器件,设于第一反射光线和第二反射光线的光路的重合位置,用于将第一反射光线和第二反射光线引射至目标成像位置。本实用新型使得包含有不同被测工件表面特征的光线得以同时引射至目标成像位置,达到双光路同时进行缺陷检测的目的,有效地节省了检测成本,并提高了检测效率。

基本信息
专利标题 :
一种双光路缺陷检测装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202122831328.6
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-11-18
授权号 :
CN216747446U
授权日 :
2022-06-14
发明人 :
陈灵铭
申请人 :
广东奥普特科技股份有限公司
申请人地址 :
广东省东莞市长安镇锦厦社区河南工业区锦升路8号
代理机构 :
北京集佳知识产权代理有限公司
代理人 :
韩丽波
优先权 :
CN202122831328.6
主分类号 :
G01N21/88
IPC分类号 :
G01N21/88  G01N21/01  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段,即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/84
专用于特殊应用的系统
G01N21/88
测试瑕疵、缺陷或污点的存在
法律状态
2022-06-14 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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