一种激光加工用环形同轴送粉式喷嘴装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种激光加工用环形同轴送粉式喷嘴装置，包括锁定环、喷嘴内环、喷嘴外环和环座；喷嘴内环外表面依次包括锥面出粉段、粉末发散段和螺纹连接段；螺纹连接段与环座上端口的螺纹连接；当转动喷嘴内环时，即改变其相对于喷嘴外环之间的距离，以调节锥面出粉段的外表面与锥形空腔之间的间隙；当确定锥面出粉段的外表面与锥形空腔之间的间隙后，通过旋紧锁定环使其定位。采用上述结构，调节锥面出粉段的外表面与锥形空腔之间的间隙，不仅可以控制出粉量，而且可以满足更多的加工工艺需求，适应更宽范围的粉末粒径，在确保有足够高的粉末利用率的同时，兼顾加工效率及加工精度，大大降低了加工成本。
基本信息
专利标题 ：
一种激光加工用环形同轴送粉式喷嘴装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122978473.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-11-30
授权号 ：
CN216585214U
授权日 ：
2022-05-24
发明人 ：
杨永强周恒王迪温娅玲朱勇强魏宏鸣
申请人 ：
华南理工大学
申请人地址 ：
广东省广州市天河区五山路381号
代理机构 ：
广州市华学知识产权代理有限公司
代理人 ：
蔡克永
优先权 ：
CN202122978473.7
主分类号 ：
C23C24/10
IPC分类号 ：
C23C24/10
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C24/00
自无机粉末起始的镀覆（熔融态覆层材料的喷镀入C23C4/00；固渗入C23C8/00-C23C12/00
C23C24/08
加热法或加压加热法的
C23C24/10
覆层中临时形成液相的
法律状态
2022-05-24 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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