本发明公开一种用于真空设备中基片加热的加热器，包括加热单元，加热单元包括导热体，导热体的任一表面设置为平整面，平整面用于热接触被加热的基片，导热体通过粘胶封装有加热件，加热件具有引脚；电流控制单元与引脚相连，电流控制单元通过控制加热件的电流来控制加热功率；加热单元和电流控制单元均安装于固定单元上，固定单元包括放置板，加热单元设置于放置板上，放置板上设置有固定件，基片通过固定件安装于平整面上。本发明公开的用于真空设备中基片加热的加热器，其是一种能用于不同的环境氛围的加热器，其具有更低的成本，以及更高的兼容性，能满足各种需要。