活塞环外圆和端面PVD镀层制备方法
实质审查的生效
摘要
本发明公开了一种活塞环外圆和端面PVD镀层制备方法，包括以下步骤：对活塞环受镀面进行清洗；将活塞环的受镀端面朝外装入夹具并间隔置于PVD设备内；对活塞环的受镀面进行刻蚀；通入氮气沉积镀层，沉积镀层时偏压20～25V，阴极电流80～100A。本发明外圆和端面同时PVD镀层，外角镀层结合更好，质量更稳定，活塞环端面PVD耐磨、耐高温、耐腐蚀，抗咬合性能好，工艺流程少，采用物理气相沉积方法替代电镀铬，环保性能好；由于镀层结晶细腻，能取消传统工艺过程中所必需的昂贵的磨削加工，PVD后端面微抛光，粗糙度好，更利于初期磨合和端面密封；活塞环与PVD夹具的装、卸方便快捷，其操作简单，适于工业化。
基本信息
专利标题 ：
活塞环外圆和端面PVD镀层制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114351086A
申请号 ：
CN202210011671.2
公开（公告）日 ：
2022-04-15
申请日 ：
2022-01-06
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
刘凡唐玉红刘定遂
申请人 ：
仪征亚新科双环活塞环有限公司
申请人地址 ：
江苏省扬州市仪征市大庆南路5号
代理机构 ：
南京苏高专利商标事务所(普通合伙)
代理人 ：
赵淑芳
优先权 ：
CN202210011671.2
主分类号 ：
C23C14/02
IPC分类号 ：
C23C14/02 C23C14/04 C23C14/06 C23C14/32
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/02
待镀材料的预处理
法律状态
2022-05-03 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/02
申请日 : 20220106
申请日 : 20220106
2022-04-15 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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