一种抗高过载硅敏感单元、微加速度计及其制备方法
实质审查的生效
摘要

本发明公开了一种抗高过载硅敏感单元、微加速度计及其制备方法,硅敏感单元包括外框、复合梁结构与质量块组件;复合梁结构包含梁应力释放结构、敏感梁和位移限制梁,梁应力释放结构的两侧通过敏感梁与外框相连、两端通过位移限制梁与外框相连;两个敏感梁、两个位移限制梁以梁应力释放结构为中心呈十字对称结构位于质量块组件间隔的镂空槽内;外框包含缓冲止挡结构。本发明应用于硅微传感器技术领域,增设位移限制梁与缓冲止挡结构,在不影响微加速度计工作模态下,位移限制梁可以在微加速度计受到冲击时提升敏感梁的刚度和整个敏感单元的刚性,外框上的缓冲止挡结构可在质量块与外框产生碰撞时进行阻挡与缓冲保护,提高了微加速度计抗过载性能。

基本信息
专利标题 :
一种抗高过载硅敏感单元、微加速度计及其制备方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114348951A
申请号 :
CN202210018515.9
公开(公告)日 :
2022-04-15
申请日 :
2022-01-07
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
侯占强吴学忠肖定邦李青松席翔张勇猛刘高单恒苗桐侨虢晓双王北镇
申请人 :
中国人民解放军国防科技大学
申请人地址 :
湖南省长沙市开福区德雅路109号
代理机构 :
长沙国科天河知识产权代理有限公司
代理人 :
赵小龙
优先权 :
CN202210018515.9
主分类号 :
B81B3/00
IPC分类号 :
B81B3/00  B81C1/00  G01P15/125  
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B81
微观结构技术
B81B
微观结构的装置或系统,例如微观机械装置
B81B3/00
由柔性或可变形的元件组成的装置,例如由弹性舌或膜片组成
法律状态
2022-05-03 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : B81B 3/00
申请日 : 20220107
2022-04-15 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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