本发明公开了一种改善MARK点隐裂的新型MARK点制作图形设计，涉及MARK点制作图形设计领域，本发明包括MARK点1，MARK点1由横向绘图线2和纵向绘图线3组成，横向绘图线2和纵向绘图线3呈十字形交叉设置。本发明通过分段区303设置，使得在上纵向绘图线301和下纵向绘图线302组合成纵向绘图线3后与横向绘图线2配合时，不会出现重复雕刻区域，通过分段式进行绘制图形，可以有效的避免对硅片的二次伤害，大幅度的减少MARK点区域的隐裂问题，从而可以提升良率，避免MARK点中心区域二次激光雕刻导致MARK点区域硅片存在隐裂的情况，此种设计方案在现有激光掺杂设备上都是可以完全兼容，不会增加成本，且工业化生产过程中稳定性好，不会影响正常生产。