基于大容量空间复用超颖表面的单像素成像方法
公开
摘要
本发明公开的基于大容量空间复用超颖表面的成像方法，涉及一种基于大容量空间复用超颖表面的单像素成像方法，属于微纳光学和单像素成像应用技术领域。本发明实现方法为：将随机分布纳米孔结构的超颖表面作为单像素成像系统中的掩膜，能够实现无偏振选择的快速和高分辨率的成像，其工作范围能够从整个可见光到近红外波段；通过移动超颖表面的方式切换掩膜图案，能够实现空间复用，在有限的空间区域中获取更多的掩膜图案，提高超颖表面的信息容量。本发明能够从可见光到近红外波段的快速且高分辨率的单像素成像，基于超颖表面的单像素成像系统体积小、光路简单，能够使成像系统更加紧凑且集成化，拓宽单像素成像系统的应用范围。
基本信息
专利标题 ：
基于大容量空间复用超颖表面的单像素成像方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114581298A
申请号 ：
CN202210040275.2
公开（公告）日 ：
2022-06-03
申请日 ：
2022-01-14
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
黄玲玲闫景逍李昕王涌天
申请人 ：
北京理工大学
申请人地址 ：
北京市海淀区中关村南大街5号
代理机构 ：
北京正阳理工知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
邬晓楠
优先权 ：
CN202210040275.2
主分类号 ：
G06T3/40
IPC分类号 ：
G06T3/40 G01J3/28
IPC结构图谱
G
G部——物理
G06
计算；推算或计数
G06T
一般的图像数据处理或产生
G06T3/00
在图像平面内的图形图像转换
G06T3/40
整个或部分图像的缩放
法律状态
2022-06-03 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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