本发明提供一种优化多层薄膜回刻高度负载的方法，提供衬底，衬底上形成有沟槽；形成覆盖在沟槽的表面内壁淀积形成的功能薄膜；在填充沟槽填充形成牺牲层；同步回刻蚀牺牲层和功能薄膜，被回刻蚀后的牺牲层上方的功能薄膜层暴露，使得沟槽内上端功能薄膜的上侧被刻蚀去除；去除被回刻蚀后的牺牲层；多次形成覆盖功能薄膜的另一层功能薄膜，每一次另一层功能薄膜形成后重复步骤填充牺牲层、回刻蚀牺牲层和功能薄膜以及去除回刻蚀后的牺牲层，在沟槽的内壁表面形成同一高度的多层功能薄膜。本发明采用在沟槽中填充牺牲层对多种填充材料进行逐层刻蚀，为多层薄膜在高深宽比深槽内的有效填充和构建工艺需求提供了解决办法。