参数处理方法及装置
实质审查的生效
摘要
本申请公开了一种参数处理方法及装置，该方法包括：根据多个已校准产品的初始射频参数，确定第一射频参数；基于第一射频参数生成第一配置文件；将第一配置文件写入测试产品，获取对测试产品的第一射频测试结果；若第一射频测试结果为测试产品通过射频测试，则根据第一配置文件将第一射频参数写入产品。采用本申请，可以得到理想的第一射频参数，并将第一射频参数写入产品之中，而无需再使用射频校准仪器进行校准，在保证产品良好的射频性能的同时，提升产品生产效率，降低产品成本。
基本信息
专利标题 ：
参数处理方法及装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114337858A
申请号 ：
CN202210097774.5
公开（公告）日 ：
2022-04-12
申请日 ：
2022-01-27
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
万志军
申请人 ：
深圳市有方科技股份有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市龙华区民治街道北站社区汇德大厦1号楼4401室
代理机构 ：
广州三环专利商标代理有限公司
代理人 ：
陈舟苗
优先权 ：
CN202210097774.5
主分类号 ：
H04B17/00
IPC分类号 ：
H04B17/00 H04B17/11 H04B17/21
法律状态
2022-04-29 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H04B 17/00
申请日 : 20220127
申请日 : 20220127
2022-04-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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