电源以及电弧处理方法
实质审查的生效
摘要
本申请提供了一种电源以及电弧处理方法，该电源包括发电电路、电弧检测电路和驱动控制电路；电弧检测电路用于在目标电弧产生时，基于在第一检测时刻和第二检测时刻检测到的发电电路的输出得到第一电弧检测功率差，基于在第二检测时刻和第三检测时刻检测到的发电电路的输出得到第二电弧检测功率差；电弧检测电路还用于基于第一电弧检测功率差、第二电弧检测功率差和目标检测时间间隔得到目标电弧的电弧类型；驱动控制电路用于基于目标电弧的电弧类型对应的灭弧响应时长控制发电电路停止向负载输出电压和/或电流，以进行灭弧处理。采用本申请，可通过电弧类型确定灭弧时长，在减少误判率的同时，提高了生产效率，降低生产成本。
基本信息
专利标题 ：
电源以及电弧处理方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114540774A
申请号 ：
CN202210111405.7
公开（公告）日 ：
2022-05-27
申请日 ：
2022-01-29
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
陈亚梯赵志浩王绍煦罗超
申请人 ：
深圳市瀚强科技股份有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市龙华区龙华街道清湖社区清湖村宝能科技园7栋7层B座GHIJKLM单位
代理机构 ：
深圳市慧实专利代理有限公司
代理人 ：
孙东杰
优先权 ：
CN202210111405.7
主分类号 ：
C23C14/32
IPC分类号 ：
C23C14/32 C23C16/50 H02H1/00 H02H3/08
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/32
爆炸法；蒸发及随后的气化物电离法
法律状态
2022-06-14 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/32
申请日 : 20220129
申请日 : 20220129
2022-05-27 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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