版图处理方法、版图处理系统及电子设备
实质审查的生效
摘要
本公开提供一种版图处理方法、版图处理系统及电子设备，涉及半导体技术领域，用于解决版图可扩展性弱的技术问题，该版图处理方法包括：根据若干个版图参数生成标准单元版图，标准单元版图包括第一反相器版图，用于形成一个第一反相器，第一反相器版图包括一个第一NMOS管版图和一个第一PMOS管版图，版图参数包括第一NMOS管版图和第一PMOS管版图的栅极图案之间的距离；根据若干个电路参数和标准单元版图，生成结果版图；输出结果版图的数据库格式文件。调整版图参数以调整第一NMOS管版图和第一PMOS管版图的栅极图案彼此靠近的一端的长度，调整电路参数以调整标准单元版图所形成的电路结构，提高版图的可扩展性。
基本信息
专利标题 ：
版图处理方法、版图处理系统及电子设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114462349A
申请号 ：
CN202210117799.7
公开（公告）日 ：
2022-05-10
申请日 ：
2022-02-08
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
徐帆
申请人 ：
长鑫存储技术有限公司
申请人地址 ：
安徽省合肥市经济开发区空港工业园兴业大道388号
代理机构 ：
北京同立钧成知识产权代理有限公司
代理人 ：
闫洁
优先权 ：
CN202210117799.7
主分类号 ：
G06F30/392
IPC分类号 ：
G06F30/392
IPC结构图谱
G
G部——物理
G06
计算；推算或计数
G06F
电数字数据处理
G06F30/392
平面规划或布局，例如,分区或放置
法律状态
2022-05-27 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G06F 30/392
申请日 : 20220208
申请日 : 20220208
2022-05-10 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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