本发明提供一种半导体版图的监控方法及系统，该半导体版图的监控方法包括建立一个监控半导体版图的数据模型，数据模型包括多个金属层的数据信息，且每个金属层的数据信息包括第一类型金属层信息和第二类型金属层信息；输入版图数据，并依据版图数据设定所需监控图形的层数信息；根据版图数据，并结合第二类型金属层信息，获取监控图形的最高金属层的数据信息；根据监控图形最高金属层的数据信息，并结合第一类型金属层信息，获取监控图形的其他金属层的数据信息；以及对最高金属层和其他金属层进行修正，获取监控图形的数据信息。本发明提供的一种监控图形的形成方法，可实现版图在光刻过程中的监控。