一种半导体版图设计方法及其制备芯片、终端
公开
摘要

本发明公开了一种半导体版图设计方法及其制备芯片、终端,属于半导体版图设计技术领域,方法包括根据芯片规格参数以及晶圆可操作面积上限值输出版图设计草图;基于芯片测试难易度和/或晶圆面积利用率和/或切割次数建立量化评价得分标准体系,对版图设计草图进行评分进而确认版图设计方案。本发明在芯片排版过程中,采用的芯片为包含自身完整独立划片槽,进而保证芯片排版过程中芯片间距等于划片槽宽度,从而避免芯片的二次切割,保证了切割效率;同时,芯片间隔等于划片槽宽度,能够避免引入白边导致多次切割可能引入的芯片边缘切割时出现裂纹,继而降低芯片性能稳定性与可靠性。

基本信息
专利标题 :
一种半导体版图设计方法及其制备芯片、终端
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114611451A
申请号 :
CN202210231813.6
公开(公告)日 :
2022-06-10
申请日 :
2022-03-10
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
不公告发明人
申请人 :
成都复锦功率半导体技术发展有限公司
申请人地址 :
四川省成都市中国(四川)自由贸易试验区成都高新区和乐二街171号5栋15楼
代理机构 :
成都华风专利事务所(普通合伙)
代理人 :
张巨箭
优先权 :
CN202210231813.6
主分类号 :
G06F30/392
IPC分类号 :
G06F30/392  H01L27/02  G06F111/04  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G06
计算;推算或计数
G06F
电数字数据处理
G06F30/392
平面规划或布局,例如,分区或放置
法律状态
2022-06-10 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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