适用于引入定制芯片的切割版图设计方法及其制备的芯片
实质审查的生效
摘要

本发明公开了适用于引入定制芯片的切割版图设计方法及其制备的芯片,属于半导体技术领域,根据芯片外型参数进行芯片分类处理,得到常规芯片数据和定制芯片数据;根据常规芯片数据以及晶圆可操作面积上限值进行排版计算,输出所有具有贯穿划片槽的版图设计草图;根据定制芯片数据对版图设计草图中的预留位置进行二次设计,输出二次版图设计草图。本发明先对常规芯片进行排版设计,得到具有贯穿划片槽的版图设计草图,大大降低了二次切割风险;在预留面积的情况下,规划定制芯片的划片槽设计,将版图设计草图整体变化控制在最小范围,在不影响常规芯片排版的基础上得到兼容定制芯片的版图设计草图,以此保证版图切割良率和效率。

基本信息
专利标题 :
适用于引入定制芯片的切割版图设计方法及其制备的芯片
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114548019A
申请号 :
CN202210437075.0
公开(公告)日 :
2022-05-27
申请日 :
2022-04-25
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
不公告发明人
申请人 :
成都复锦功率半导体技术发展有限公司
申请人地址 :
四川省成都市中国(四川)自由贸易试验区成都高新区和乐二街171号5栋15楼
代理机构 :
成都华风专利事务所(普通合伙)
代理人 :
吴桂芝
优先权 :
CN202210437075.0
主分类号 :
G06F30/392
IPC分类号 :
G06F30/392  H01L27/02  G06F113/18  G06F111/16  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G06
计算;推算或计数
G06F
电数字数据处理
G06F30/392
平面规划或布局,例如,分区或放置
法律状态
2022-06-14 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G06F 30/392
申请日 : 20220425
2022-05-27 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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