一种制备共晶高熵合金TEM样品的方法
著录事项变更
摘要
本发明公开了一种制备共晶高熵合金TEM样品的方法，包括：将共晶高熵合金样品进行切割和磨抛处理，得到厚度范围为40～60μm的共晶高熵合金试样薄片；对共晶高熵合金试样薄片进行电解双喷减薄制样；其中，电解双喷减薄制样过程所采用的电解液的成分由体积分数为5～10％的高氯酸和90～95％乙醇所组成。本发明能有效避免共晶组织中某一相的过度腐蚀脱落，同时可防止样品变形和表面发乌形成氧化层，通过本发明可获得表面洁净光亮和薄区范围大的TEM样品，可满足TEM中不同内容的检测要求，并且操作简单、效率高和成本低，适合大批量地制备高质量的共晶高熵合金TEM样品。
基本信息
专利标题 ：
一种制备共晶高熵合金TEM样品的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114486959A
申请号 ：
CN202210134624.7
公开（公告）日 ：
2022-05-13
申请日 ：
2022-02-14
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
姜贝贝董勇吴焱学于玲王逸如许燕滨
申请人 ：
广东工业大学
申请人地址 ：
广东省广州市番禺区广州大学城外环西路100号
代理机构 ：
深圳市恒和大知识产权代理有限公司
代理人 ：
廖军才
优先权 ：
CN202210134624.7
主分类号 ：
G01N23/20008
IPC分类号 ：
G01N23/20008 G01N23/20 G01N23/04 G01N1/28 G01N1/34 G01N1/32
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N23/00
利用波或粒子辐射来测试或分析材料，例如未包括在G01N3/00-G01N17/00、G01N 21/00 或G01N 22/00中的X射线或中子
G01N23/20
利用材料辐射的衍射，例如，用于测试晶体结构；利用材料辐射的散射，例如测试非晶材料；利用材料辐射的反射
G01N23/20008
分析仪零件结构，例如其特征在于X射线源、检测器或光学系统；其配件；样品制备
法律状态
2022-06-07 ：
著录事项变更
IPC(主分类) : G01N 23/20008
变更事项 : 发明人
变更前 : 姜贝贝 董勇 吴焱学 于玲 王逸如 许燕滨
变更后 : 姜贝贝 董勇 段守岗 吴焱学 于玲 王逸如 许燕滨 钟紫珊
变更事项 : 发明人
变更前 : 姜贝贝 董勇 吴焱学 于玲 王逸如 许燕滨
变更后 : 姜贝贝 董勇 段守岗 吴焱学 于玲 王逸如 许燕滨 钟紫珊
2022-05-31 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01N 23/20008
申请日 : 20220214
申请日 : 20220214
2022-05-13 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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