半密闭共晶贴片装置及共晶贴片方法
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摘要

本发明提供了一种半密闭共晶贴片装置及共晶贴片方法,通过吸附孔的开口沿着吸附端到吸头杆的方向逐渐收缩的吸头结构设计,后续在共晶贴合时,能抬升吸头使得吸头的吸附端与芯片无紧密接触且吸附孔的下端面不脱离芯片的上表面,进而能带动芯片进行水平横向摩擦,且在水平横向摩擦过程中,芯片仅受到极小的平推力,表面及整体不受力,共晶贴片时贴装压力可控且一致,降低了共晶贴片时贴装压力的波动性;贴装压力为较小的横向推力,对应的焊料流散程度主要由横向推力的摩擦运动幅度决定,焊料的流散程度可控,贴片后焊料的流散分布较为均匀、边缘整齐、表面明亮;贴装压力较小,使得芯片贴装时受到的摩擦力较小,减少了芯片的表面损伤及边缘崩边。

基本信息
专利标题 :
半密闭共晶贴片装置及共晶贴片方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN112992730A
申请号 :
CN202110158487.6
公开(公告)日 :
2021-06-18
申请日 :
2021-02-04
授权号 :
CN112992730B
授权日 :
2022-06-14
发明人 :
熊化兵李金龙
申请人 :
中国电子科技集团公司第二十四研究所
申请人地址 :
重庆市南岸区南坪花园路14号
代理机构 :
上海光华专利事务所(普通合伙)
代理人 :
李铁
优先权 :
CN202110158487.6
主分类号 :
H01L21/67
IPC分类号 :
H01L21/67  H01L21/683  
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
法律状态
2022-06-14 :
授权
2021-07-06 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 21/67
申请日 : 20210204
2021-06-18 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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