一种高精度光刻胶组合物及其直写系统
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摘要

本发明属于光刻胶及激光直写技术领域,并公开了一种适用于飞秒激光直写的高精度光刻胶组合物,所述光刻胶组合物由单体和光引发剂。技术特征在于,所述光刻胶组合物具有双色光敏性,可以被特定波长的飞秒激光引发聚合,同时又可以被另一束连续激光抑制聚合,抑制光束减小了飞秒激光的直写区域,从而提高了飞秒激光直写精度;进一步的,所述光刻胶组合物折射率和光学系统的物镜折射率差异小于0.01,减小了激光在光刻胶中的相差或球差,从而进一步提高飞秒激光直写精度,本发明所提供的光刻胶组合物通过特定结构的单体,不仅具有较高的直写精度,还有较低的直写阈值和体积收缩率。

基本信息
专利标题 :
一种高精度光刻胶组合物及其直写系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114185246A
申请号 :
CN202210143737.3
公开(公告)日 :
2022-03-15
申请日 :
2022-02-17
授权号 :
CN114185246B
授权日 :
2022-05-06
发明人 :
邱毅伟曹春关玲玲沈小明夏贤梦匡翠方刘旭
申请人 :
之江实验室;浙江大学
申请人地址 :
浙江省杭州市余杭区之江实验室南湖总部
代理机构 :
北京志霖恒远知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
奚丽萍
优先权 :
CN202210143737.3
主分类号 :
G03F7/027
IPC分类号 :
G03F7/027  G03F7/20  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
G03F7/027
具有碳—碳双键的非高分子的可光聚合的化合物,例如,乙烯化合物
法律状态
2022-05-06 :
授权
2022-04-01 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/027
申请日 : 20220217
2022-03-15 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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