基于组分合成和梯度投影的激光干涉相位解调方法
实质审查的生效
摘要
本发明提供一种基于组分合成和梯度投影的激光干涉相位解调方法,包括步骤:S1:干涉条纹振动矢量补偿步骤,通过两个视频流态中的条纹位移矢量计算,反向补偿振动矢量,实现干涉条纹偏移修正;S2:像元振动多组分合成抗振步骤,基于灰度匹配预处理和多组分合成算法对残余振动误差补偿,进而获得消除振动误差的干涉图像;S3:灰度投影相位解调步骤,通过梯度投影算法去除所述干涉图像背景光强,并通过反正切运算完成相位提取,实现待测元件波前相位信息重构。本发明的一种基于组分合成和梯度投影的激光干涉相位解调方法,能够在振动环境下,快速、准确的实现相位提取,实现光学元件面形轮廓检测。
基本信息
专利标题 :
基于组分合成和梯度投影的激光干涉相位解调方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114485473A
申请号 :
CN202210157836.7
公开(公告)日 :
2022-05-13
申请日 :
2022-02-21
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
李志松陈宇胡红磊徐潇胡晓莉桂夷斐
申请人 :
上海电机学院
申请人地址 :
上海市闵行区江川路690号
代理机构 :
上海伯瑞杰知识产权代理有限公司
代理人 :
李庆
优先权 :
CN202210157836.7
主分类号 :
G01B11/24
IPC分类号 :
G01B11/24 G01B9/02
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01B
长度、厚度或类似线性尺寸的计量;角度的计量;面积的计量;不规则的表面或轮廓的计量
G01B11/00
以采用光学方法为特征的计量设备
G01B11/24
用于计量轮廓或曲率
法律状态
2022-05-31 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01B 11/24
申请日 : 20220221
申请日 : 20220221
2022-05-13 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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