一种193nm光刻胶用丙烯酸酯树脂单体的合成方法
公开
摘要
本发明涉及一种193nm光刻胶用丙烯酸酯树脂单体的合成方法，以丙烯酸乙烯酯或甲基丙烯酸乙烯酯以及醇为反应原料，以小极性的烷烃溶剂为反应溶剂，加入阻聚剂，用碱性的离子交换树脂作为催化剂，在低温条件下通过酯交换得到丙烯酸酯。本发明提出了的193nm光刻胶用丙烯酸酯树脂单体的合成方法，反应过程操作简单，反应高效、安全，是一条可以适用于工业化生产的工艺路线。
基本信息
专利标题 ：
一种193nm光刻胶用丙烯酸酯树脂单体的合成方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114560768A
申请号 ：
CN202210223736.X
公开（公告）日 ：
2022-05-31
申请日 ：
2022-03-09
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
张琛王静云杜照磊李石磊孙佳伟宋扬
申请人 ：
河北凯诺中星科技有限公司
申请人地址 ：
河北省石家庄市循环化工园区工业大街99号
代理机构 ：
石家庄新世纪专利商标事务所有限公司
代理人 ：
彭锂
优先权 ：
CN202210223736.X
主分类号 ：
C07C67/03
IPC分类号 ：
C07C67/03 C07C69/54 C07C67/62 C07D307/32 C07D307/33 G03F7/004 G03F7/027
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C07
有机化学
C07C
无环或碳环化合物
C07C67/00
羧酸酯的制备
C07C67/03
用酯基与羟基反应
法律状态
2022-05-31 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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