一种含缩酮结构酸敏感光刻胶树脂单体的制备方法
实质审查的生效
摘要
本发明涉及一种含缩酮结构酸敏感光刻胶树脂单体的制备方法，所述制备方法包括如下合成路线：其中，R1为C1～C6的烷基，R2为氢原子或C1～C6的烷基；所述制备方法包括如下步骤：a)将式Ⅱ化合物、催化剂加入至有机溶剂中，然后加入式Ⅲ化合物，经过加成反应，得到式Ⅰ化合物；b)将步骤a)中的反应液进行碱洗，分子膜短程蒸馏，得到所述含缩酮结构酸敏感光刻胶树脂单体。本发明的制备方法使产物收率高，纯度高。
基本信息
专利标题 ：
一种含缩酮结构酸敏感光刻胶树脂单体的制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114276239A
申请号 ：
CN202111646902.9
公开（公告）日 ：
2022-04-05
申请日 ：
2021-12-29
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
傅志伟潘新刚余文卿纪兴跃邵严亮
申请人 ：
徐州博康信息化学品有限公司
申请人地址 ：
江苏省徐州市邳州市经济开发区化工聚集区
代理机构 ：
上海智晟知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
张东梅
优先权 ：
CN202111646902.9
主分类号 ：
C07C67/04
IPC分类号 ：
C07C67/04 C07C67/54 C07C69/54
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C07
有机化学
C07C
无环或碳环化合物
C07C67/00
羧酸酯的制备
C07C67/04
用羧酸或对称酐与不饱和碳-碳键反应
法律状态
2022-04-22 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C07C 67/04
申请日 : 20211229
申请日 : 20211229
2022-04-05 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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