本发明涉及一种酸敏感光刻胶树脂单体的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括如下反应路线：其中，M为碳数5～7的环烷基，R₁为氢原子或烷基，R₂为烷基；所述制备方法包括如下步骤：c)向第一溶剂中通入卤甲烷，得到含卤甲烷的第一溶剂溶液；d)在惰性气体条件下，将金属锂和式Ⅳ化合物加入到第一溶剂中混合，滴加步骤c)制备的含卤甲烷的第一溶剂溶液，搅拌，反应，纯化，得到式Ⅲ化合物；f)将式Ⅲ化合物和缚酸剂加入到第二溶剂中混合，并滴加式Ⅱ化合物，经酯化反应，纯化，得到式Ⅰ化合物。本发明制备方法得到的树脂单体为一种酸敏感光刻胶树脂单体，得到的产物收率高，纯度高，杂质少。