一种非拦截式直流束流位置及束斑形状测量方法及系统
实质审查的生效
摘要

本发明提供一种非拦截式直流束流位置及束斑形状测量方法及系统包括:在测量探头中的每一正对的两块偏转极板间施加预设幅值的电压,以使两块所述偏转极板之间产生电场;以所述电场使得束流打到电流探针上,据以探测电流变化;对偏转极板电压进行归零,对所述偏转极板进行电压调整直至电流探针上检测到电流,记录此时的电压幅值,对每组所述偏转极板循环前述操作直至结束测量;以预设逻辑处理所述电压幅值,据以获取偏移位移,以得到所述束流位置及所述束斑形状。本发明解决了结构复杂,易受干扰,使用成本高、易损坏烧蚀及测量对象单一的技术问题。

基本信息
专利标题 :
一种非拦截式直流束流位置及束斑形状测量方法及系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114460621A
申请号 :
CN202210228744.3
公开(公告)日 :
2022-05-10
申请日 :
2022-03-08
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
肖丹陈思泽章勇李桃生
申请人 :
中国科学院合肥物质科学研究院
申请人地址 :
安徽省合肥市蜀山区蜀山湖路350号
代理机构 :
合肥市浩智运专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
朱文振
优先权 :
CN202210228744.3
主分类号 :
G01T1/29
IPC分类号 :
G01T1/29  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01T
核辐射或X射线辐射的测量
G01T1/175
电源电路
G01T1/29
对辐射束流的测量,例如,测量射束位置或截面;辐射的空间分布的测量
法律状态
2022-05-27 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01T 1/29
申请日 : 20220308
2022-05-10 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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