一种超分辨X射线阴影成像系统及其成像方法
公开
摘要
本发明公开了一种超分辨X射线阴影成像系统，所述超分辨X射线阴影成像系统包括依次设置的X射线光源、样品台、X射线探测器和图像反演设备，所述X射线光源、所述样品台和所述X射线探测器的几何中心共线，所述样品台的几何中心有用于放置待测样品通孔，所述X射线光源用于提供X射线，且所述X射线能够通过样品台在所述X射线探测器上形成成像图像，所述图像反演设备用于获取所述成像图像，并对所述成像图像进行图像反演操作，以形成新的成像图像。本发明所提供的超分辨X射线阴影成像系统及其成像方法，能够克服光源大小对成像分辨率局限的情况下，获得清晰、高分辨的X射线阴影成像图像。
基本信息
专利标题 ：
一种超分辨X射线阴影成像系统及其成像方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114563429A
申请号 ：
CN202210306053.0
公开（公告）日 ：
2022-05-31
申请日 ：
2022-03-25
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
曹磊峰俞健汪雪邓嘉玲李迪开代艳萌张春晖周沧涛阮双琛
申请人 ：
深圳技术大学
申请人地址 ：
广东省深圳市坪山区石井街道兰田路3002号
代理机构 ：
北京正华智诚专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
杨浩林
优先权 ：
CN202210306053.0
主分类号 ：
G01N23/04
IPC分类号 ：
G01N23/04 G06T3/40
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N23/00
利用波或粒子辐射来测试或分析材料，例如未包括在G01N3/00-G01N17/00、G01N 21/00 或G01N 22/00中的X射线或中子
G01N23/02
通过使辐射透过材料
G01N23/04
并形成材料的图片
法律状态
2022-05-31 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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