一种基于超材料结构的电磁屏蔽膜
公开
摘要
本发明公开了一种针对具有超材料结构的电磁屏蔽膜，包括载体薄膜层、绝缘层、屏蔽层、导电胶层、聚酯薄膜层；所述载体薄膜层、绝缘层、屏蔽层、导电胶层、聚酯薄膜层之间以此层叠分布。屏蔽层设有以矩形谐振环为超材料结构的电磁屏蔽单元。该电磁屏蔽膜能够最大限度的屏蔽内部的扩散以及外部信号的干扰。
基本信息
专利标题 ：
一种基于超材料结构的电磁屏蔽膜
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114585249A
申请号 ：
CN202210313928.X
公开（公告）日 ：
2022-06-03
申请日 ：
2022-03-28
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
田建辉王在爽张成冯孝周
申请人 ：
西安工业大学
申请人地址 ：
陕西省西安市金华北路4号
代理机构 ：
北京深川专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
张彦
优先权 ：
CN202210313928.X
主分类号 ：
H05K9/00
IPC分类号 ：
H05K9/00 H01P7/00
法律状态
2022-06-03 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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