本发明涉及用于光学胶离型膜的聚酯基膜技术领域，公开了一种高耐温润滑性聚酯基膜及其制备方法，所述聚酯基膜分为三层，包括上表面层、下表面层和中间层；所述上表面层和下表面层均为A层；所述中间层为B层；所述A层按重量份计包括90~99份的嵌段共聚酯和1~10份的有机润滑粒子；所述B层按重量份计包括60~80份的聚对苯二甲酸乙二醇酯和20~40份的耐热聚酯。本发明可以增加聚酯基膜表层的柔性和润滑性，减少聚酯与聚酯之间、聚酯与辊面之间的接触面积，解决其在生产过程中基膜与辊面接触引起表面划伤，并且聚酯基膜具有较高的强度和耐高温性。