一种二氧化锆微纳图案的飞秒激光直写方法
实质审查的生效
摘要
本发明公开了一种二氧化锆微纳图案的飞秒激光直写方法，将异丙醇锆与有机酸反应得到光刻胶单体，将光刻胶单体与光引发剂按比例溶解，旋涂在基板上之后，可在飞秒激光的诱导下在选定的位置发生聚合，显影后形成光刻图案，将所得的图案在空气气氛中高温退火，得到二氧化锆微纳图案，该方法无需掩模版，可以快速简便地制造任意的二氧化锆微纳图案，可用于电路电容和半导体微器件等产品的制造加工。
基本信息
专利标题 ：
一种二氧化锆微纳图案的飞秒激光直写方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114527630A
申请号 ：
CN202210417731.0
公开（公告）日 ：
2022-05-24
申请日 ：
2022-04-21
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
匡翠方夏贤梦曹春沈小明邱毅伟关玲玲
申请人 ：
之江实验室;浙江大学
申请人地址 ：
浙江省杭州市余杭区之江实验室南湖总部
代理机构 ：
北京志霖恒远知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
奚丽萍
优先权 ：
CN202210417731.0
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 G03F7/16 G03F7/30
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-06-10 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20220421
申请日 : 20220421
2022-05-24 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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