基于FPGA光直写方法及成像传输系统设备
公开
摘要

本发明公开了一种基于FPGA光直写方法及成像传输系统设备,涉及激光直写技术领域。本发明包括通过计算机直写软件设计出基片掩模上需要的图形;通过计算机产生设计的微光学元件或待制作的VLSI掩摸结构数据;将数据转换成直写系统控制数据,由计算机控制激光源发射激光束在光刻胶上直接扫描曝光;通过激光束在光刻胶上直接曝光写出所设计的任意图形,从而把设计图形直接转移到基片掩模上。本发明通过设置的两个夹板,能带动两个夹板相对移动对放置台上的放置的基片进行夹持固定,激光发射器和摄像设备位于操作箱的下面,从而减少了激光发射器和摄像设备自身的重量对操作箱造成较大的压力的情况。

基本信息
专利标题 :
基于FPGA光直写方法及成像传输系统设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114624966A
申请号 :
CN202210449434.4
公开(公告)日 :
2022-06-14
申请日 :
2022-04-27
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
杨国环张昌清刘涛
申请人 :
浙江津芯微电子科技有限公司
申请人地址 :
浙江省杭州市余杭区仓前街道龙潭路16号3幢204-5室
代理机构 :
杭州汇和信专利代理有限公司
代理人 :
薛文玲
优先权 :
CN202210449434.4
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-06-14 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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