一种高电导率阴离子交换膜
授权
摘要
本实用新型涉及离子交换膜技术领域，针对现有的阴离子交换膜电导率低的问题，提供了一种高电导率阴离子交换膜，包括基膜，所述基膜的表面嵌设有多个凹孔，所述基膜的表面配置有离子吸附涂层，所述离子吸附涂层与所述基膜之间通过偶联层连接。本申请的阴离子交换膜结构简单，制备方便，基膜的表面嵌设有多个孔径为10‑30μm的凹孔，可增大基膜的表面积，使阴离子更大程度地接触并通过阴离子交换膜；在基膜的表面通过偶联层的偶联作用覆设离子吸附涂层，离子吸附涂层对阴离子有吸附作用，可促进阴离子通过阴离子交换膜，进而提高离子电导率。
基本信息
专利标题 ：
一种高电导率阴离子交换膜
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202220220781.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2022-01-26
授权号 ：
CN216698439U
授权日 ：
2022-06-07
发明人 ：
杨志袁诗琳
申请人 ：
成都氢汇能科技有限公司
申请人地址 ：
四川省成都市武侯区武侯大道顺江段77号1幢12层24号
代理机构 ：
成都睿道专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
许立
优先权 ：
CN202220220781.5
主分类号 ：
H01M8/0245
IPC分类号 ：
H01M8/0245
法律状态
2022-06-07 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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