光照法生产吡哌酸中间体脱氢酯的工业方法
专利权的终止未缴纳年费专利权终止
摘要
本发明涉及抗菌药吡哌酸中间体脱氢酯的工业生产方法。至今国内外生产脱氢酯大多采用三乙胺法，该法的主要缺点是脱氢酯的收率低，脱氢酯的纯度低且消耗大量三乙胺等。本发明采用光照法，在由搪玻璃，搪瓷和聚四氟乙烯等材料特制的光化反应器中，以环合酯为原料，加溴后光照脱去溴化氢制得脱氢酯。克服了三乙胺法的上述缺点。
基本信息
专利标题 ：
光照法生产吡哌酸中间体脱氢酯的工业方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN85100992A
申请号 ：
CN85100992.1
公开（公告）日 ：
1987-01-31
申请日 ：
1985-04-01
授权号 ：
CN85100992B
授权日 ：
1987-11-11
发明人 ：
施侠杨九金杨光华武佩玉郑俊民程荣春
申请人 ：
华东石油学院;山东新华制药厂
申请人地址 ：
地址=山东省东营市东营区北一路739号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN85100992.1
主分类号 ：
C07D471/04
IPC分类号 ：
C07D471/04 B01J19/00
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C07
有机化学
C07D
杂环化合物
C07D471/00
在稠环系中含有氮原子作为仅有的杂环原子、其中至少1个环是含有1个氮原子的六元环的杂环化合物，C07D451/00至C07D463/00不包括的
C07D471/02
在稠环系中含两个杂环
C07D471/04
邻位稠环系
法律状态
1992-08-26 ：
专利权的终止未缴纳年费专利权终止
1988-05-25 ：
授权
1987-11-11 ：
审定
1987-01-31 ：
公开
1985-09-10 ：
实质审查请求
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
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