噻唑(或噻二唑)并三唑并嘧啶衍生物的制造方法
授权
摘要
本发明涉及以式(I)表示的三唑嘧啶化合物及在生理上可接受的该化合物的盐类的制备方法。用本发明的方法制备成的本发明化合物在口服时具有优异的抗过敏活性并且可用于处理和预防过敏性疾病如支气管哮喘、过敏性胃肠紊乱、过敏性鼻炎、枯草热以及荨麻疹等。
基本信息
专利标题 ：
噻唑(或噻二唑)并三唑并嘧啶衍生物的制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN85103200A
申请号 ：
CN85103200.1
公开（公告）日 ：
1986-12-24
申请日 ：
1985-04-25
授权号 ：
CN1019394B
授权日 ：
1992-12-09
发明人 ：
矶田纯郎
申请人 ：
第一制药株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
杨九昌
优先权 ：
CN85103200.1
主分类号 ：
C07D513/14
IPC分类号 ：
C07D513/14 A61K31/495
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C07
有机化学
C07D
杂环化合物
C07D513/00
杂环化合物，在稠环系中至少有1个杂环具有氮原子和硫原子作为仅有的杂环原子，不包含在C07D463/00、C07D477/00或C07D499/00至C07D507/00组中
C07D513/12
稠环系中含有3个杂环
C07D513/14
邻位稠合系
法律状态
1993-09-15 ：
授权
1992-12-09 ：
审定
1988-10-12 ：
实质审查请求
1986-12-24 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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