光学物性测定装置
专利权的终止
摘要
本实用新型系利用光束在三块经适当配置的镀有高反射膜层的球面反射镜之间多次反射但发散度保持不变的性质，来测量不同介质(气体、液体及透明固体介质)在不同物理条件(电、磁场强度、气压、温度、放电激发)下于不同波长处的吸收，增益等物性。本仪器的光程(反射次数)调节及信号测量与处理均由计算机程控完成。
基本信息
专利标题 ：
光学物性测定装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN85200312.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
1985-04-01
授权号 ：
CN85200312U
授权日 ：
1986-02-19
发明人 ：
张治国俞祖和朱化南韩权生
申请人 ：
中国科学院物理研究所
申请人地址 ：
北京市603信箱
代理机构 ：
中国科学院物理研究所专利办公室
代理人 ：
高存秀
优先权 ：
CN85200312.9
主分类号 ：
G01N21/17
IPC分类号 ：
G01N21/17
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段，即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/17
入射光根据所测试的材料性质而改变的系统
法律状态
1990-08-01 ：
专利权的终止
1986-09-03 ：
授权
1986-02-19 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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