隙缝辐射照相装置
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
用于隙缝辐射照相的装置，它包括一个X射线源和一个隙缝隔板，通过该隔板，一个要检验的物体能被一个平面X射线扇形束所扫描。隙缝隔板有效地与多个并排的舌形衰减元件相配，这些元件的活动端可或大或小地摆入X射线束中，以便对射线束起局部衰减作用。从X射线源方向看，舌形衰减元件的纵向中心线向X射线源方向延伸，并且所有衰减元件的纵向中心线相交于至少一个公共点上。
基本信息
专利标题 ：
隙缝辐射照相装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN86101248A
申请号 ：
CN86101248.8
公开（公告）日 ：
1986-08-06
申请日 ：
1986-01-29
授权号 ：
CN86101248B
授权日 ：
1988-06-01
发明人 ：
西蒙·杜因克雨果·弗拉斯布洛姆
申请人 ：
德瓦德—代尔夫特光学工业公司
申请人地址 ：
荷兰代尔夫特
代理机构 ：
中国专利代理有限公司
代理人 ：
林长安
优先权 ：
CN86101248.8
主分类号 ：
G01K1/04
IPC分类号 ：
G01K1/04 G01K23/04 A61B6/06
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01K
温度测量；热量测量；未列入其他类目的热敏元件
G01J9/00
测量光学相位差；测定相干性的程度；测量光学波长
G01J9/04
通过差拍同一光源但频率不同的两个波而测量所获得的较低频率的相位偏移
G01K1/04
标度
法律状态
1997-03-12 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
1989-08-23 ：
授权
1988-06-01 ：
审定
1986-08-06 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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