非周期排列平板隙缝辐射阵面
其他有关事项(避免重复授权放弃专利权)
摘要

本实用新型公开一种非周期排列平板隙缝辐射阵面,包括第一象限阵面、第二象限阵面、第三象限阵面和第四象限阵面,第一象限阵面和第三象限阵面以阵面中心为对称点相对称,第二象限阵面与第四象限阵面以阵面中心为对称点相对称;第一象限阵面、第二象限阵面、第三象限阵面和第四象限均包括至少2个子阵,每个子阵由阵元组成,在每个阵元上设有1条辐射缝,子阵的排列为非周期性排列,阵元数随机分布,每个子阵的相位中心在阵面的方位面和仰俯面上的投影间距大于半个波长且小于1.5倍波长;所有辐射缝的相位按同相分布,且幅度服从园口径台劳分布或切比雪夫分布。本实用新型具有在子阵数较多的情况下,天线增益大且周期性寄生副瓣小等优点。

基本信息
专利标题 :
非周期排列平板隙缝辐射阵面
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200620072433.9
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2006-04-21
授权号 :
CN200941428Y
授权日 :
2007-08-29
发明人 :
邱家恒张锡林李俊沛
申请人 :
南京璇星科技发展有限公司
申请人地址 :
210003江苏省南京市中山北路346号
代理机构 :
南京经纬专利商标代理有限公司
代理人 :
陆志斌
优先权 :
CN200620072433.9
主分类号 :
H01Q21/00
IPC分类号 :
H01Q21/00  H01Q13/00  
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法律状态
2009-12-09 :
其他有关事项(避免重复授权放弃专利权)
放弃生效日 : 2009122
2007-08-29 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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