在非导体上制造金属结构
专利权的终止专利权有效期届满
摘要
本发明涉及一种在非导体上制造导电结构的方法，其特征在于，金属覆盖层是通过金属有机化合物在辉光放电区分解而沉积的。
基本信息
专利标题 ：
在非导体上制造金属结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN86101886A
申请号 ：
CN86101886.9
公开（公告）日 ：
1986-11-19
申请日 ：
1986-03-22
授权号 ：
CN1005240B
授权日 ：
1989-09-20
发明人 ：
哈拉尔德·苏尔克里斯蒂安·奥尔俄恩斯特·弗尤尔
申请人 ：
舍林股份公司
申请人地址 ：
联邦德国1000柏林65
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利代理部
代理人 ：
王以平
优先权 ：
CN86101886.9
主分类号 ：
H05K3/18
IPC分类号 ：
H05K3/18 C23C16/18 C23C18/16
法律状态
2001-11-14 ：
专利权的终止专利权有效期届满
1990-05-30 ：
授权
1989-09-20 ：
审定
1988-07-06 ：
实质审查请求
1986-11-19 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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