抗菌化合物的生产方法
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要

制备具有下式的一种化合物或其可作药用的盐或酯的方法,式中各基团定义详见说明书,该方法的详细描述请见说明书。该通式化合物具有优良的抗菌活性。

基本信息
专利标题 :
抗菌化合物的生产方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN86102034A
申请号 :
CN86102034.0
公开(公告)日 :
1987-01-07
申请日 :
1986-02-28
授权号 :
CN1030657C
授权日 :
1996-01-10
发明人 :
三宅昭夫近藤正熙藤野政彦
申请人 :
武田药品工业株式会社
申请人地址 :
日本大阪府大阪市
代理机构 :
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人 :
唐跃
优先权 :
CN86102034.0
主分类号 :
C07D501/56
IPC分类号 :
C07D501/56  A61K31/545  
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C07
有机化学
C07D
杂环化合物
C07D501/00
杂环化合物,含有5-硫杂-1-氮杂双环辛烷环系,即含下式环系的化合物:,例如,头孢菌素;这种环系进一步稠合,例如与1个含氧或氮的杂环在2,3位稠合
C07D501/14
有1个氮原子直接连在位置7的化合物
C07D501/16
在位置2和3之间有1个双键
C07D501/20
7-酰基氨基头孢霉素酸或取代的7-酰基氨基头孢霉素酸,其酰基是由羧酸衍生的
C07D501/24
有被杂原子或杂环取代的烃基连在位置3
C07D501/48
被杂环取代的亚甲基
C07D501/56
有被含杂环的羧酸酰化的7-氨基
法律状态
1998-04-22 :
专利权的终止未缴年费专利权终止
1996-01-10 :
授权
1988-06-29 :
实质审查请求
1987-01-07 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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