抗菌化合物的制备方法
视为撤回的专利申请
摘要
本发明涉及下式的化合物或其生理或医药上适宜的盐或酯：其中R0代表氢原子、含氮杂环基团、酰基或氨基保护基，Z代表S、S→O、O或CH2，R4代表氢原子、甲氧基或甲酰胺基，R13代表氢原子、甲基、羟基或卤素原子，而A代表一种任意取代的、在其1，5-位上形成一个稠合环的吡唑-2-基基团。此化合物是新的化合物并且具有优良的抗菌活性。
基本信息
专利标题 ：
抗菌化合物的制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN85105977A
申请号 ：
CN85105977.5
公开（公告）日 ：
1987-02-25
申请日 ：
1985-08-07
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
三宅昭夫近藤正熙藤野政彦
申请人 ：
武田药品工业株式会社
申请人地址 ：
日本大阪府大阪市东区道修町2丁目27番地
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利代理部
代理人 ：
唐跃
优先权 ：
CN85105977.5
主分类号 ：
C07D501/04
IPC分类号 ：
C07D501/04 C07D501/18 C07D501/57 C07D471/04 C07D498/04 A61K31/535
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C07
有机化学
C07D
杂环化合物
C07D501/00
杂环化合物，含有5-硫杂-1-氮杂双环辛烷环系，即含下式环系的化合物：，例如，头孢菌素；这种环系进一步稠合，例如与1个含氧或氮的杂环在2,3位稠合
C07D501/02
制备
C07D501/04
从已含有此环系或稠环系的其他化合物，例如由环系的脱氢化，取代基的引入、消除或改变
法律状态
1991-11-13 ：
视为撤回的专利申请
1987-02-25 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN85105977A.PDF
PDF下载
