狭缝辐射照相装置
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
一种长方形狭缝辐射照相装置，包括一个由外壳包围的充气测量室，两个相对的侧壁是用电离辐射可穿透的材料制成的。可透辐射的侧壁之一设置有可透辐射的板状电极，另一可透辐射侧壁设置有多个与测量室纵长方向相垂直的条状电极。一保护电极包围板状电极。本剂量计可透X射线，特别适用于那类能沿狭缝长度任意调整局部缝宽的狭缝辐射照相设备。
基本信息
专利标题 ：
狭缝辐射照相装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN86108587A
申请号 ：
CN86108587.6
公开（公告）日 ：
1987-07-15
申请日 ：
1986-11-15
授权号 ：
CN1020002C
授权日 ：
1993-03-03
发明人 ：
夫拉斯布洛姆·胡格
申请人 ：
老代尔夫特光学工业有限公司
申请人地址 ：
荷兰代尔夫特2612
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利代理部
代理人 ：
孙蜀宗
优先权 ：
CN86108587.6
主分类号 ：
G01T1/185
IPC分类号 ：
G01T1/185 G01T1/02 H01J47/02
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01T
核辐射或X射线辐射的测量
G01T1/00
X射线辐射、γ射线辐射、微粒子辐射或宇宙线辐射的测量
G01T1/16
辐射强度测量
G01T1/185
用电离室装置
法律状态
1998-01-07 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
1993-03-03 ：
授权
1989-02-08 ：
实质审查请求
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN86108587A.PDF
PDF下载
2、
CN1020002C.PDF
PDF下载
