超声清洗方法和设备
被视为撤回的申请
摘要
一种改进的、用于在液槽中清洗半导体基片的方法和设备，它包括向液槽供给超纯水一类流体的装置和供给液槽中的基片能量的电声换能器，激励换能器的频率范围大约在20千赫至90千赫之间，在液槽中形成一个致密的、轮廓分明的强旋涡区域。换能器从上面紧挨液面但不接触液面放置，因而使液槽中湍流量少，避免湍流重新把脏物沉积在已经清洗过的基片表面上。当换能器被激励时，在换能器和液体之间形成弯月形液面，能令人满意地把能量传递给基片表面。
基本信息
专利标题 ：
超声清洗方法和设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN87101160A
申请号 ：
CN87101160
公开（公告）日 ：
1988-06-29
申请日 ：
1987-12-18
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
丹尼尔·乔治·奥谢
申请人 ：
伊斯曼柯达公司
申请人地址 ：
美国纽约州
代理机构 ：
中国专利代理有限公司
代理人 ：
程天正
优先权 ：
CN87101160
主分类号 ：
B08B3/12
IPC分类号 ：
B08B3/12 H01L21/00
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B08
清洁
B08B
一般清洁；一般污垢的防除
B08B3/00
使用液体或蒸气的清洁方法
B08B3/04
与液体接触的清洁
B08B3/10
对液体或被净化物体进行附加处理的，如用加热，电力，振动
B08B3/12
用声波或超声波振动的（声波或超声波陶器或餐具清洗或冲洗机入A47L15/13；使用超声波技术清洗或冲洗天然牙、假牙或类似于天然牙的入A61C17/20；超声波振动用于一般化学、物理，或物理化学过程中的入B01J19/10
法律状态
1990-09-26 ：
被视为撤回的申请
1988-06-29 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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